Осаждение тонких плёнок с кристаллической структурой на поверхности пластин 200 и 300 мм с высокой однородностью и контролем состава. Применяемая технология: химическое осаждение из газовой фазы (CVD).
На нашем сайте используются файлы cookie для обеспечения полноценного использования домашней страницы. Файлы cookie не используются для того, чтобы Вас лично идентифицировать. Продолжая использовать сайт, Вы соглашаетесь, что на Вашем устройстве сохраняются и используются файлы cookie. Вы можете в любой момент отозвать свое согласие, изменив настройки браузера и удалив сохраненные файлы cookie.СогласенНетПолитика конфиденциальности
