Формирование ультратонких с высокой однородностью, конформностью к рельефу подложки и точным контролем толщины. Установки подходят для обработки пластин 100, 150 и 200 мм. Возможность групповой обработки, интеграции нескольких процессных модулей в кластер и установки удалённой плазмы для проведения низкотемпературных процессов ПАСО.
Ваша заявка отправлена
Ваш отзыв получен.
