Формирование ультратонких с высокой однородностью, конформностью к рельефу подложки и точным контролем толщины. Установки подходят для обработки пластин 100, 150 и 200 мм. Возможность групповой обработки, интеграции нескольких процессных модулей в кластер и установки удалённой плазмы для проведения низкотемпературных процессов ПАСО.
На нашем сайте используются файлы cookie для обеспечения полноценного использования домашней страницы. Файлы cookie не используются для того, чтобы Вас лично идентифицировать. Продолжая использовать сайт, Вы соглашаетесь, что на Вашем устройстве сохраняются и используются файлы cookie. Вы можете в любой момент отозвать свое согласие, изменив настройки браузера и удалив сохраненные файлы cookie.
